XDP-WDC는 점착성, 습성 또는 가연성 먼지를 생산하는 산업 공정을 위해 설계된 높높은 공기 흐름 (2644~10562 m³/h)과 물 필름 여과를 결합하여 3~30 µm 입자와 ≥90%의 입자 >10 µm를 XDP XDP-WDC는 XDP XDP XDP-WDC는 물 필름 여과를 결합하여 3~30 µm 입자와 ≥
기계는 금속 가공, 도금, 페인팅/마무리, 화학 가공, 안료 및 글레이즈 생산에 적용될 수 있습니다.

작동 원칙

팬에 의해 생성되는 부정압 하에서 먼지로 가득한 가스는 물 여과 모듈에 들어가고 액체 (일반적으로 물) 와 긴밀히 접촉합니다.물방울과 먼지 입자 및 기타 수집 메커니즘 사이의 inertial 충돌을 통해, 장치는 효과적으로 지름의 액체 또는 고체 입자를 잡습니다.3~30μm범위와 또한 몇몇 가스성 오염물질을 제거합니다.물은 가스 흐름에 의해 위로 이동됩니다.배플 및 demisting 단위와 결합하여, 가스-액체 분리가 발생하고 액체는 배플배플 배플 및 demisting 단위와 결합하여 배플 배플 및 demisting 단위와 결합하여 배플배플 및 demisting 단위와 결합하여 액펌프 없는 물 재순환시스템은 정화 효율성을 달성합니다.10 μm 이상의 입자를 위한≥90%.

성능 특성
펌프 없는 물 필름 디자인재순환 펌프 없이 작동하여 에너지 소비가 낮아지고 장애점이 줄어들 수 있습니다.
Hybrid wet-scrubber 기능 — 높은 먼지 제거 효율성을 위해 침투 및 자체 프라임 높높높높은 높높은 먼지 제거 효율성을 위해 높높높은 높높높은 먼지 제거 효율성을 위해 높높높높은 먼지 제거 효율성을
낮은 저항 및 방지 저저항저압 감소와 차단 경향을 줄이기 위해 설계되었습니다.
광범위한 먼지 처리 능력고온, 높은 습도 가스 흐름, 높은 전기 저항을 가진 먼지 및 가연성 / 폭발성 먼지 부하 가스에 적합;
조합된 먼지 및 가스 처리입자 물질을 제거하는 동안 시스템은 또한 수증을 시시시축하고 특정 가스형 오염물질을 제거하여 동시에 냉각과 정화를 제공합니다.

장치 원칙
먼지로 가득한 가스가 팬에 의해 수집기 입구로더 큰 입자는 물에 직접 더 더 떨어진다.더 미세한 입자는 S 모양의 수축 확장 채널을 통해 가스와 함께 운반되며, 로컬 속도가 증가하고 가스 제트는 물을 수여하여 풍부한 스플래시, 거품 및 미세한 안개를 생성하여 가스 액체 접촉을 강화합니다.S 모양의 채널에서 갑자기 방향의 변화는 외벽으로 입자를 던지는 원심력을 생성하며, 미세한 입자는 물 안개에 의해 포착됩니다.S 모양의 채널을 나온 후, 가스는 그 속도가 떨어지는 소화 방으로 들어갑니다.배플 (디미스팅 요소)는 원심으로 수여 된 방울을 분리하여 떨어지고 수집 된 먼지를 방출합니다.그 다음 물은 저장 물물 물물에 돌아갑니다.청소된 가스는 팬에 의해 방출되고 청청청소는 정기적으로 또는 지속적으로 청청소 방출 청소청소 청소 청소 방출 청소를 통해 정기적으로 또는 지속적으로 제거됩니다.